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3M Technical Ceramics  

알루미늄 나이트라이드 (ALN)
 

알루미늄 나이트라이드는 높은 열전도율 (180~200 W/mk)과 그 견고성(Specific Stiffness: 96.9 Gpa cm3/g)으로 인하여 반도체 장비 등에 히터(Heater), 진공 척(Vacuum chucks), RF윈도우(RF Window), 더미 웨이퍼(Dummy wafer)등의 용도로 많이 사용됩니다. 특히 ESK Ceramics/3M의 자매회사 제품인 CeradyneCeralloy 137-CS는 히터의 기재소재(substrate)로 사용되는데 이러한 히터들은 반도체 웨이퍼 예열, 포토리소그래피(photolithography), 웨이퍼아닐링(annealing) 및 기타용도로 사용됩니다. 히터로 사용 될 때의 특성을 보면 다음과 같습니다.


  - 넓은 면적에 걸쳐서 평활도(Flatness)를 유지하면서 낮은 두께의 프로파일이 가능
  - 빠른 열 반응
  - 우수한 온도 균일 성



<ALN 기재 위의 온도분포 사진>

소결-알루미늄-01.jpg




<다양한 용도와 적용형상>

소결-알루미늄-02.jpg




<알루미늄 나이트라이드 종류와 물성치>
소결-알루미늄-03.jpg




 


   
 


 
 
 
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